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普通的CCD由于柵極對紫外區(qū)元素有著強烈的吸收導致這些元素的量子效率低，所以需要鍍熒光物質(zhì)（變頻膜）來增強量子效率。

大部分廠家都是鍍膜的，提高對紫外區(qū)元素的靈敏度，但是有些是沒有鍍膜的，檢測紫外元素也還是不錯，要綜合考慮到光室，光柵等。

鍍一層紫外熒光模，不同熒光膜，量子效率也不一樣。如果是有機膜，壽命可能不長。背照式的，不鍍膜。

下面我們來看看光學鍍膜有哪些方式與方法。

第一種類型是抗反射鍍膜，這種鍍膜可以用來降低光學元件表面的一些不必要反射，從而增加光學元件的透光率，攝影鏡頭的鍍膜就屬于這個范疇;

第二種類型是高反射鍍膜，它與抗反射鍍膜的原理正好相反，是用來在物體的表面產(chǎn)生鏡面效果，最高可以反射99.99%以上的入射光;

第三種類型是透明導電鍍膜，是一種既能導電又在可見光范圍內(nèi)具有高透明率的一種薄膜，透明導電薄膜主要用于光電器件(如LED，薄膜太陽能電池等)的窗口材料。

CCD直讀光譜儀光學零件

鍍膜控制穿過光學干涉機制的反射光和透射光。當兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，波峰值的空間位置也匹配并將結合創(chuàng)建較大的總振幅。當光束為反相位(180°位移)時，其疊加會導致在所有峰值的消減效應，導致結合的振幅降低。這些效應被分別稱為建設性和破壞性的干涉。

光的波長和入射角通常是指定的，折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會影響鍍膜內(nèi)光線的路徑長度，并將在光透射時改變相位值。這種效應可簡單地通過單層增透膜例子說明。

當光傳輸穿過系統(tǒng)時，在鍍膜任一側(cè)的兩個接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了使反射最小化，當兩個反射部分在第一界面處結合時，我們希望它們之間具有180°相位差。這個相位差異直接對應于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學厚度設置為λ/4獲得最佳實現(xiàn)。

折射率不僅影響光路長度(以及相位)，也影響每個界面的反射特性。反射率通過菲涅爾公式定義，其反射率與界面兩邊材料的折射率之差息息相關。

必須考慮到的最后一個參數(shù)是膜層的入射角。如果光的入射角改變，則每層的內(nèi)角和光程長度都將受到影響;這將影響反射光束的相位變化量。使用非一般入射時，S偏振光和P偏振光將從每個界面互相反射，這將導致兩個偏振光具有不同的光學性能。偏振分光計就是基于這一原理設計的。

光學鍍膜所涉及的制造工藝是勞動和資本密集型的，并且十分耗時。影響鍍膜成本的因素包括被鍍膜的光學件的數(shù)量，類型，尺寸，需要鍍多少層膜以及光學件上需要鍍膜的表面數(shù)量。鍍膜采用的沉積工藝對鍍膜成本以及鍍膜性能方面的影響也十分巨大。此外，在這之前還需要做大量的準備工作，以確保每個鍍膜光學件的質(zhì)量都能達到最高水平。不同的鍍膜沉積技術，具有各自的優(yōu)缺點，以上是關于光學元件光學鍍膜的知識。